Plateforme Croissance

— Responsables : S. Collin, F. Godel

Le laboratoire dispose de trois chambres de pulvérisation cathodique équipées de cathodes DC et RF. Les matériaux déposés en couches minces ou ultra-minces sont de différents types, avec ou sans propriétés magnétiques : métaux purs, alliages métalliques, isolants. Ces chambres sont couplées soit à des chambres de croissance par ablation laser pulsée soit à une chambre d’évaporation thermique (par canon à électron et effet joule) permettant d’élaborer des hétérostructures hybrides. Des composés supraconducteurs, ferroélectriques, moléculaires ou bidimensionnels peuvent être ainsi combinés avec les matériaux ferromagnétiques.

— Responsables : C. Carrétéro, E. Jacquet

Le laboratoire dispose de cinq réacteurs équipés de laser solide Nd-YAG ou laser excimère KrF. Ces réacteurs permettent d’explorer une large gamme de matériaux tels que des oxydes diélectriques, ferroélectriques, magnétiques, supraconducteurs ou bien des matériaux bidimensionnels van der Waals. Trois de ces réacteurs sont connectés in-situ et couplés à deux chambres de pulvérisation cathodique pour la réalisation d’hétérostructures oxydes/métaux. Des moyens de caractérisation in-situ (RHEED, LEED, XPS, UPS) sont connectés aux différentes chambres de croissance.

— Responsables : S. Collin, F. Godel

Deux réacteurs (ALD et CVD) sont dédiés au dépôt de couches ultra-minces par précurseurs moléculaires. Le réacteur ALD permet d’élaborer des couches minces de diélectrique et des couches métalliques ferromagnétiques. Des matériaux bidimensionnels tels que le graphène sont élaborés grâce au réacteur CVD sur des substrats métalliques (ferromagnétique ou non). Ces deux réacteurs sont reliés par une valise de transfert sous ultra vide à la chambre de pulvérisation cathodique permettant d’élaborer des hétérostructures de spintronique hybrides.

— Responsables : S. Collin, F. Godel

Afin d’intégrer des composés moléculaires dans des dispositifs le laboratoire est équipé d’une chambre d’évaporation thermique et de boîtes à gants. La chambre d’évaporation thermique, couplée à la pulvérisation cathodique, est dédiée au dépôt sous ultra vide de semi-conducteurs organiques pour la réalisation d’hétérostructures hybrides organiques/inorganiques. Les boîtes à gants permettent de former des monocouches auto-assemblées de molécules en solution sous atmosphère contrôlée. Une valise de transfert permet connecter les boîtes à gants aux chambres ALD, CVD et pulvérisation cathodique.